光催化原理及应用技术

  • 日期
  • 来源
    未知

    半导体光催化剂大多是n型半导体材料都具有区别于金属或绝缘物质的特别的能带结构,即在价带(ValenceBand,VB)和导带(ConductionBand,CB)之间存在一个禁带(ForbiddenBand,BandGap)。由于半导体的光吸收阈值与带隙具有式K=1240/Eg(eV)的关系,因此常用的宽带隙半导体的吸收波长阈值大都在紫外区域。当光子能量高于半导体吸收阈值的光照射半导体时,半导体的价带电子发生带间跃迁,即从价带跃迁到导带,从而产生光生电子(e-)和空穴(h+)。此时吸附在纳米颗粒表面的溶解氧俘获电子形成超氧负离子,而空穴将吸附在催化剂表面的氢氧根离子和水氧化成氢氧自由基。而超氧负离子和氢氧自由基具有很强的氧化性,能将绝大多数的有机物氧化至最终产物CO2和H2O,甚至对一些无机物也能彻底分解。
    光催化净化是基于光催化剂在紫外线照射下具有的氧化还原能力而净化污染物。利用光催化净化技术去除空气中的有机污染物具有以下特点:
  1直接用空气中的氧气做氧化剂,反应条件温和(常温 常压)
  2可以将有机污染物分解为二氧化碳和水等无机小分子,净化效果彻底。
  3半导体光催化剂化学性质稳定,氧化还原性强,成本低,不存在吸附饱和现象,使用寿命长。
    光催化净化技术具有室温深度氧,二次污染小,运行成本低和可望利用太阳光为反应光源等优点,所以光催化特别合适室内挥发有机物的净化,在深度净化方面显示出了巨大的应用潜力。



  格林森藻钙晶体表面的微孔赋予的强吸附性将有机污染物气体吸附到表面,其功能性促进酶将周围的有机污染物通过系列反应,催化形成中间产物,并最终降解为二氧化碳、水,通过不断吸附、不断分解,从而达到持续降解有机污染物,形成不留存,不饱和,不再二次释放,不残留有害物,持续改善室内空气环境。

在线咨询
点击开始 在线咨询
电话咨询
请拨打咨询电话 400-027-0055
微信客服

微信咨询,随时获取新的内容